SETO 1,67 fotochromatická šošovka SHMC

1) Čo je to spin coating?

Odstreďovanie je postup používaný na nanášanie rovnomerných tenkých vrstiev na ploché substráty.Zvyčajne sa na stred substrátu nanáša malé množstvo poťahového materiálu, ktorý sa otáča buď nízkou rýchlosťou, alebo sa neodstreďuje vôbec.Substrát sa potom otáča rýchlosťou až 10 000 otáčok za minútu, aby sa náterový materiál rozprestrel odstredivou silou.Stroj používaný na odstredivé nanášanie sa nazýva odstredivý poťahovač alebo jednoducho odstredivka.
Rotácia pokračuje, kým sa kvapalina odstreďuje od okrajov substrátu, kým sa nedosiahne požadovaná hrúbka filmu.Použité rozpúšťadlo je zvyčajne prchavé a súčasne sa odparuje.Čím vyššia je uhlová rýchlosť odstreďovania, tým je fólia tenšia.Hrúbka filmu závisí aj od viskozity a koncentrácie roztoku a rozpúšťadla.Priekopnícku teoretickú analýzu rotačného poťahovania vykonal Emslie a kol. a rozšírili ju mnohí ďalší autori (vrátane Wilsona a kol., ktorí študovali rýchlosť šírenia pri odstreďovaní; a Danglad-Flores a kol., ktorí zistili univerzálny popis na predpovedanie hrúbky naneseného filmu).
Spin coating je široko používaný pri mikrovýrobe funkčných oxidových vrstiev na sklenených alebo monokryštálových substrátoch pomocou sol-gélových prekurzorov, kde je možné ho použiť na vytvorenie jednotných tenkých filmov s hrúbkou nanometrov.[6]Intenzívne sa používa vo fotolitografii na nanášanie vrstiev fotorezistu s hrúbkou asi 1 mikrometer.Fotorezist sa zvyčajne otáča rýchlosťou 20 až 80 otáčok za sekundu počas 30 až 60 sekúnd.Je tiež široko používaný na výrobu planárnych fotonických štruktúr vyrobených z polymérov.
Jednou z výhod rotačného nanášania tenkých filmov je rovnomernosť hrúbky filmu.Vďaka samonivelizácii sa hrúbka nelíši o viac ako 1 %.Avšak rotačné nanášanie hrubších filmov polymérov a fotorezistov môže viesť k relatívne veľkým okrajovým guľôčkam, ktorých planarizácia má fyzikálne limity.